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      復(fù)旦大學(xué)二維半導(dǎo)體芯片“無極”突破硅基材料和集成規(guī)模
      2025/4/7 12:17:40     

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      【產(chǎn)通社,4月7日訊】復(fù)旦大學(xué)(Fudan University)官網(wǎng)消息,集成芯片與系統(tǒng)全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室周鵬、包文中聯(lián)合團(tuán)隊(duì)成功研制全球首款基于二維半導(dǎo)體材料的32位RISC-V架構(gòu)微處理器“無極(WUJI)”。相關(guān)成果于北京時間4月2日晚間以《基于二維半導(dǎo)體的RISC-V 32比特微處理器》(“A RISC-V 32-Bit Microprocessor Based on Two-dimensional Semiconductors”)為題發(fā)表于《自然》(Nature)主刊。

      該成果突破二維半導(dǎo)體電子學(xué)工程化瓶頸,首次實(shí)現(xiàn)5900個晶體管的集成度,是由復(fù)旦團(tuán)隊(duì)完成、具有自主知識產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)技術(shù),使我國在新一代芯片材料研制中占據(jù)先發(fā)優(yōu)勢,為推動電子與計算技術(shù)進(jìn)入新紀(jì)元提供有力支撐。


      115→5900實(shí)現(xiàn)二維邏輯芯片最大規(guī)模驗(yàn)證紀(jì)錄


      面對摩爾定律逼近物理極限的全球性挑戰(zhàn),具有單個原子層厚度的二維半導(dǎo)體是目前國際公認(rèn)的破局關(guān)鍵,科學(xué)家們一直在探索如何將二維半導(dǎo)體材料應(yīng)用于集成電路中。

      十多年來,國際學(xué)術(shù)界與產(chǎn)業(yè)界已掌握晶圓級二維材料生長技術(shù),成功制造出擁有數(shù)百個原子長度、若干個原子厚度的高性能基礎(chǔ)器件。但是在復(fù)旦團(tuán)隊(duì)取得新突破之前,國際上最高的二維半導(dǎo)體數(shù)字電路集成度僅為115個晶體管,由奧地利維也納工業(yè)大學(xué)團(tuán)隊(duì)在2017年實(shí)現(xiàn)。

      核心難題在于,要將這些原子級精密元件組裝成完整的集成電路系統(tǒng),依舊受制于工藝精度與規(guī)模勻性的協(xié)同良率控制。經(jīng)過五年攻關(guān),復(fù)旦團(tuán)隊(duì)將芯片從陣列級或單管級推向系統(tǒng)級集成,基于二維半導(dǎo)體材料(二硫化鉬MoS2)制造的32位RISC-V架構(gòu)微處理器“無極(WUJI)”成功問世。

      該芯片通過自主創(chuàng)新的特色集成工藝,以及開源簡化指令集計算架構(gòu)(RISC-V),集成5900個晶體管,在國際上實(shí)現(xiàn)二維邏輯芯片最大規(guī)模驗(yàn)證紀(jì)錄。

      “反相器是一個非;A(chǔ)且重要的邏輯電路,它的良率直接反映了整個芯片的質(zhì)量。”復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院教授周鵬介紹,二維材料不像硅晶圓可以通過直拉法生長出高質(zhì)量的大尺寸單晶,而是需要通過化學(xué)氣相沉積(CVD)法來生長,這就導(dǎo)致了材料本身的缺陷和不均勻性。本項(xiàng)研究中的反相器良率高達(dá)99.77%,具備單級高增益和關(guān)態(tài)超低漏電等優(yōu)異性能,這是一個工程性的突破。

      “我們要確保每一道工藝都能與其他步驟無縫銜接,從而實(shí)現(xiàn)最高良率和最佳性能!闭撐墓餐谝蛔髡摺⑽㈦娮訉W(xué)院直博生敖明睿介紹,團(tuán)隊(duì)制造了900個反相器陣列,每個陣列包含30×30個反相器。經(jīng)過嚴(yán)格測試,發(fā)現(xiàn)其中898個反相器的邏輯功能完好無損,翻轉(zhuǎn)電壓和爭議值都非常理想,領(lǐng)先于同類研究。

      “如果把制造硅基芯片比作在石頭上雕刻,那么二維芯片就是在一塊豆腐上雕花!蔽㈦娮訉W(xué)院研究員包文中打比方道,二維半導(dǎo)體作為一種最薄的半導(dǎo)體形態(tài),必須采用更溫和、精細(xì)的工藝方法進(jìn)行“雕刻”。

      團(tuán)隊(duì)通過柔性等離子(Plasma)處理技術(shù)等低能量工藝,對二維半導(dǎo)體表面進(jìn)行加工,從而避免了高能粒子對材料造成的損害,充分發(fā)揮出二維半導(dǎo)體的優(yōu)勢,也確保芯片質(zhì)量。

      AI for Science高效篩選最優(yōu)工藝參數(shù)組合


      二維半導(dǎo)體芯片制作涉及上百道工藝,每步工藝之間還存在相互影響,這些工藝參數(shù)變量聯(lián)立起來的組合幾乎是天文數(shù)字。這也是二維半導(dǎo)體研發(fā)的最大難點(diǎn)。

      “單靠人工調(diào)整參數(shù)幾乎是不可能任務(wù)。”包文中介紹,在二維半導(dǎo)體領(lǐng)域,研發(fā)工藝參數(shù)的復(fù)雜性遠(yuǎn)超傳統(tǒng)硅基工藝。如何才能確保每一道工藝步驟都能與其他步驟協(xié)同工作?面對這一挑戰(zhàn),AI for Science提供了新的解法。

      早在2021年,團(tuán)隊(duì)曾在《自然·通訊》(Nature Communications)上發(fā)表了一篇文章(https://www.nature.com/articles/s41467-021-26230-x),探討采用機(jī)器學(xué)習(xí)方法優(yōu)化工藝參數(shù),此次研究正是在這一基礎(chǔ)上發(fā)展而來!拔覀冊谇捌诜e累了大量工藝參數(shù),讓AI計算出最佳工藝配方。如果沒有這些前期的數(shù)據(jù)積累,AI的效果就會大打折扣。”敖明睿說。

      通過“原子級界面精準(zhǔn)調(diào)控+全流程AI算法優(yōu)化”的雙引擎,團(tuán)隊(duì)實(shí)現(xiàn)了從材料生長到集成工藝的精準(zhǔn)控制,在短時間內(nèi)篩選出最優(yōu)的工藝參數(shù)組合,大大提高了實(shí)驗(yàn)效率。

      以接觸層的工藝優(yōu)化為例,團(tuán)隊(duì)收集了大量歷史數(shù)據(jù),包括不同條件下接觸電阻的變化情況。將這些數(shù)據(jù)輸入AI模型之后,AI模型能在研究人員的指示下,根據(jù)已有數(shù)據(jù)預(yù)測最優(yōu)的接觸層生長參數(shù)和摻雜濃度。在后道工藝中,團(tuán)隊(duì)也應(yīng)用了AI技術(shù),涉及多個步驟的精確耦合調(diào)控,確保每步操作達(dá)到最佳效果。

      成果產(chǎn)品具備單級高增益和關(guān)態(tài)超低漏電等優(yōu)異性能。通過嚴(yán)格的自動化測試設(shè)備測試,團(tuán)隊(duì)驗(yàn)證了在1 kHz時鐘頻率下,千門級芯片可以串行實(shí)現(xiàn)37種32位RISC-V指令,滿足32位RISC-V整型指令集(RV32I)要求。其集成工藝優(yōu)化程度和規(guī);娐返尿(yàn)證結(jié)果,均達(dá)到了國際同期最優(yōu)水平。

      “這表明我們的芯片不僅可以進(jìn)行簡單的邏輯運(yùn)算,還能執(zhí)行復(fù)雜的指令集!闭撐墓餐谝蛔髡摺⑽㈦娮訉W(xué)院直博生周秀誠說。


      全鏈條自主研發(fā)達(dá)到國際領(lǐng)先水平


      RISC-V作為一種開源簡化指令集計算架構(gòu),已逐漸成為當(dāng)前芯片研發(fā)領(lǐng)域的主流選擇。本次研發(fā)的芯片正是采用RISC-V架構(gòu)作為設(shè)計基礎(chǔ)。

      “我們的最終目標(biāo)是將技術(shù)送到千家萬戶,建立開放兼容的用戶生態(tài)!蔽㈦娮訉W(xué)院研究員韓軍在本次工作中負(fù)責(zé)RISC-V架構(gòu)設(shè)計。他介紹,選擇這一架構(gòu)意味著對接全球技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)且無需依賴封閉架構(gòu),未來可自主構(gòu)建用戶生態(tài),不受制于國外廠商的架構(gòu)和IP專利。

      在團(tuán)隊(duì)開發(fā)的二維半導(dǎo)體集成工藝中,70%左右的工序可直接沿用現(xiàn)有硅基產(chǎn)線成熟技術(shù),而核心的二維特色工藝也已構(gòu)建包含20余項(xiàng)工藝發(fā)明專利,結(jié)合專用工藝設(shè)備的自主技術(shù)體系,為產(chǎn)業(yè)化落地鋪平道路。

      下一步,團(tuán)隊(duì)將進(jìn)一步提高芯片集成度,尋找并搭建穩(wěn)定的工藝平臺,為未來開發(fā)具體的應(yīng)用產(chǎn)品打下基礎(chǔ)。周鵬提到,在實(shí)時信號處理方面,二維半導(dǎo)體芯片有望適用于物聯(lián)網(wǎng)、邊緣算力、AI推理等前沿計算場景。

      當(dāng)前,國際上對二維半導(dǎo)體的研究仍在起步階段,尚未實(shí)現(xiàn)大規(guī)模應(yīng)用。在全球半導(dǎo)體領(lǐng)域競爭日益激烈的背景下,本次成果意味著中國有機(jī)會在二維半導(dǎo)體材料上取得領(lǐng)先優(yōu)勢。

      “我們希望通過持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新和應(yīng)用拓展,搶占這一領(lǐng)域的制高點(diǎn)。”周鵬說。

      復(fù)旦大學(xué)集成芯片與系統(tǒng)全國重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、浙江紹芯實(shí)驗(yàn)室(紹興復(fù)旦研究院)、微電子學(xué)院周鵬和包文中為論文通訊作者,博士生敖明睿、周秀誠為論文共同第一作者。研究工作得到了科技部、國家自然科學(xué)基金委、上海市科委等項(xiàng)目的資助,以及教育部創(chuàng)新平臺的支持。查詢進(jìn)一步信息,請?jiān)L問官方網(wǎng)站http://news.fudan.edu.cn/2025/0403/c1268a144801/page.htm,以及https://www.nature.com/articles/s41586-025-08759-9。(Robin Zhang,產(chǎn)通數(shù)造)    (完)
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