【產(chǎn)通社，11月16日訊】臺(tái)積電在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中再創(chuàng)佳績(jī)，其EUV曝光機(jī)的全球市占率已達(dá)56%，彰顯了其在先進(jìn)制程領(lǐng)域領(lǐng)導(dǎo)地位。其中，低數(shù)值孔徑（NA）的EUV曝光機(jī)是目前最昂貴的半導(dǎo)體制造設(shè)備之一，每臺(tái)造價(jià)超過(guò)1億美元，而臺(tái)積電對(duì)該設(shè)備的投資逐年增加，顯示其對(duì)新技術(shù)的積極部署。

數(shù)據(jù)顯示，臺(tái)積電的EUV設(shè)備數(shù)量，自2019年起實(shí)現(xiàn)了十倍成長(zhǎng)，從僅數(shù)臺(tái)增至2023年的超過(guò)100臺(tái)，這樣的擴(kuò)展使其在全球市場(chǎng)的占有率，從2020年的50%上升到如今的56%。臺(tái)積電每年都投資數(shù)十億美元于設(shè)備和技術(shù)研發(fā)，確保其能在不斷變化的市場(chǎng)需求中保持競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。

對(duì)于下一代高NA EUV技術(shù)，臺(tái)積電采取審慎評(píng)估的策略，將根據(jù)高NA EUV的成熟度、成本和對(duì)客戶的潛在效益，評(píng)估是否將其納入大規(guī)模量產(chǎn)。該策略反映了臺(tái)積電在技術(shù)創(chuàng)新上的謹(jǐn)慎態(tài)度，確保每一項(xiàng)技術(shù)革新都能帶來(lái)實(shí)質(zhì)收益。

自2019年推出全球首個(gè)商業(yè)化EUV制程N(yùn)7+以來(lái)，臺(tái)積電不僅積極擴(kuò)大其EUV設(shè)備規(guī)模，也不斷升級(jí)技術(shù)以滿足市場(chǎng)對(duì)高效能芯片的需求，臺(tái)積電目前的N7+、N5及N3制程均廣泛運(yùn)用了EUV技術(shù)，并正引領(lǐng)全球晶圓代工市場(chǎng)的先進(jìn)制程需求。

業(yè)內(nèi)分析師認(rèn)為，臺(tái)積電的持續(xù)投資不僅將強(qiáng)化其自身的競(jìng)爭(zhēng)力，也將有助于其供應(yīng)鏈的整合與擴(kuò)展。隨著全球半導(dǎo)體需求的增長(zhǎng)，臺(tái)積電的設(shè)備優(yōu)勢(shì)使其能迅速回應(yīng)市場(chǎng)需求，并進(jìn)一步穩(wěn)固其全球晶圓代工領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

值得注意的是，除臺(tái)積電外，三星也正在其7LPP、5納米及3納米制程中運(yùn)用EUV技術(shù)，并積極引入動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器（DRAM）生產(chǎn)領(lǐng)域。（鐠元素，產(chǎn)通數(shù)造）